阵列基板及显示装置的制作方法 专利技术说明

电子电路装置的制造及其应用技术1.本发明涉及显示设备技术领域，具体地，涉及一种阵列基板及显示装置。背景技术：2.有机发光显示器为现今的主流显示技术之一，其具有更轻薄、能耗低、亮度高、发光率好、可以显示纯黑色，并且还可以做到弯曲，在当今电视、电脑(显示器)、手机、平板等领域里得到了广泛应用。但是，在息屏状态下，用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的光圈现象，该问题亟待解决。技术实现要素：3.本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种阵列基板及显示装置，其可以避免用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈现象。4.为实现上述目的，本公开实施例提供一种阵列基板，包括衬底基板和设置在衬底基板上的发光层、像素界定层、电极层和封装层，其中，像素界定层限定出多个像素区，发光层包括位于多个像素区中的有机发光功能层；电极层覆盖于像素界定层和有机发光功能层；封装层覆盖于电极层；封装层的背离电极层一侧的表面的至少部分区域形成为表面处理区，表面处理区形成有凹凸结构，用于使经过的光线发生散射。5.可选地，像素界定层的与像素区相邻的坡面形成有缓坡区，缓坡区与衬底基板所在平面之间的夹角小于等于预设角度；缓坡区正投影于封装层背离电极层一侧的表面上的区域为投影区；6.表面处理区至少包括投影区。7.可选地，缓坡区位于靠近坡面的坡顶的位置。8.可选地，预设角度为20°。9.可选地，表面处理区为像素界定层正投影于封装层背离电极层一侧的表面的区域；或者，表面处理区为封装层背离电极层一侧的表面的整个区域。10.可选地，表面处理区覆盖有反射层，反射层能够对经过的光线进行反射和透射。11.可选地，反射层的反射率大于等于5％，且小于等于15％。12.可选地，反射层的厚度大于等于0.2微米，且小于等于2微米。13.可选地，封装层包括覆盖于电极层上的第一无机层、覆盖于第一无机层上的有机层、覆盖于有机层上的第二无机层，在第一无机层、有机层以及第二无机层中至少其中之一背离电极层的一侧的表面设置有表面处理区。14.可选地，在有机层或第二无机层上设置的表面处理区为有机层或第二无机层背离电极层的一侧的整个表面。15.本公开实施例还提供一种显示装置，包括上述技术方案中的阵列基板。附图说明16.图1为本技术所采用的阵列基板的一种实施方式的剖视图；17.图2为本技术所采用的阵列基板的另一种实施方式的剖视图；18.图3为本技术所采用的具有反光层的阵列基板的一种实施方式的剖视图；19.图4为本技术所采用的显示装置的侧剖图；20.图5a为光线在坡度较小的斜面上进行反射的情况示意图；21.图5b为光线在坡度较大的斜面上进行反射的情况示意图；具体实施方式22.为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。23.附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是为了便于对本发明实施例的内容的理解。24.除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。25.本公开实施例不限于附图中所示的实施例，而是包括基于制造工艺而形成的配置的修改。因此，附图中例示的区具有示意性属性，并且图中所示区的形状例示了元件的区的具体形状，但并不是旨在限制性的。26.本公开实施例提供一种阵列基板，参照图1-4所示，包括衬底基板1和设置在衬底基板1上的发光层3、像素界定层2、电极层4和封装层，其中，像素界定层2限定出多个像素区，发光层包括位于多个像素区中的有机发光功能层3；电极层4覆盖于像素界定层2和有机发光功能层3；封装层覆盖于电极层4；封装层的背离电极层4一侧的表面的至少部分区域形成为表面处理区9，表面处理区9形成有凹凸结构，用于使经过的光线发生散射。27.其中，表面处理区9可为通过表面处理的方式，对封装层中部分或全部表面进行处理，形成凹凸结构，该凹凸结构为使表面产生众多连续的凸起或凹陷的微结构，凹凸结构为在封装层的表面产生的众多连续的凸起或凹陷的微结构，即形成相对于原有的光滑平面凸起或凹陷的结构，该结构可为凸起的半球体、椭球体或具有弧面的凸起结构等，也可为半球状或椭球状的凹槽，使封装层的表面变得相对粗糙。28.另外，电极层4可为阴极层并包含阴极金属，使其具有半反半射的特性，即当有白色光线照射到电极层4上时，部分光线能够穿过电极层4并照射到其下方的其他结构上，而另一部分光线则被电极层4反射，发生反射的位置通常为电极层4远离衬底基板1的一侧的表面。图1、图2和图4仅展示了照射到电极层4后发生反射部分的光线路径，在现有技术中，如图4所示，电极层4均匀覆盖于像素界定层2上，而像素界定层2侧面的截面形状近似为如图4所示的正梯形，其靠近发光层3的区域两侧形成有斜面，因此，电极层4相对应地也具有斜面，且可以认为在像素界定层2上的斜面与电极层4上相对应形成的斜面具有相同的坡度角(该处坡面的切向方向与衬底基板所在的平面之间的夹角)。当入射光以0度视角入射时(即如图1以及图4所示，从垂直于衬底基板所在平面的方向入射时)，单槽衍射的主极大方向与反射光的方向一致，也就是反射光的折射角为2θ，其中θ为反射光线处的电极层4的坡面的坡度角，如图4所示。这部分的能量被赋予槽间干涉的第k级主条纹，且由于红绿蓝光的波长不同，入射的白光会在反射时发生分光，即发生了类似于闪耀光栅的分光现象，被分光后的光线由显示面板的最上层出射时，即可观测到由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈。29.为了能够解决用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈现象的问题，可考虑通过采用增大反射光线处的电极层4的坡面的坡度角的方式进行解决，因为如图5a所示，当电极层4被光线照射到的部分的坡度角较小时，在此处发生反射的光线将可以从其所在的显示面板与空气之间的界面11处直接出射，而如图5b所示，当电极层4被光线照射到的部分的坡度角较大时，反射的光线会在界面11处发生全反射，即没有光线经界面11处射出，那么自然地，此时分光后的反射光线导致的彩色光圈现象将不可见。30.但是，实际上像素界定层2的斜面部分与平面部分的衔接位置，其实际结构为平滑过渡的曲面，同时，对于覆盖于像素界定层2上的电极层4也是如此，因此不可避免地，电极层4上总会有部分其坡度角较小的部分。另外，坡度角的增加，也将导致像素界定层2的厚度增加，由于封装层还有流平的要求，即使封装层远离衬底基板1的一侧表面需为平面，因此像素界定层2的厚度增加使得覆盖于电极层4的封装层无可避免将随之变厚，但是受封装层本身特性影响，封装层变厚将导致对封装层的设置产生一系列的不良影响，例如流平性变差等，如需要相应增加封装层厚度，则可能导致可视角度变差，封装层周边存在凸起变形等问题。31.在本技术所采用的技术方案中，为了解决用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈现象的问题，如图1所示，本技术在封装层的背离电极层4一侧的表面的至少部分区域形成为表面处理区9，表面处理区9用于使经过的光线发生散射。即在电极层4上发生反射的光线，在经过表面处理区9时，使原本规则的分光光线在散射后变得不再规则，射出后人眼不再能观察到彩色的光圈现象，从而解决了上述技术问题。表面处理区9可为通过表面处理的方式，对封装层中部分或全部表面进行处理，形成凹凸结构，该凹凸结构为使表面产生众多连续的凸起或凹陷的微结构，即形成相对于原有的光滑平面凸起或凹陷的结构，该结构可为凸起的半球体、椭球体或具有弧面的凸起结构等，也可为半球状或椭球状的凹槽，使封装层的表面变得相对粗糙，采用的表面处理方法可为使用等离子体进行的表面处理工艺或过程，如灰化过程等。32.如图1-2中所示的为凸起的微结构，以此为例进行说明，当经电极层4分光后的光线从凸起的微结构的下方照射到微结构上时，由于微结构表面上各个位置的切向角度各不相同，因此，光线能够经此处折射后，从而使得原本照射方向一致的光线分别照射向了不同的方向，变得不在规则，由于光线被分散，因此，人眼不再能够观察到彩色的大光圈现象，从而有效地避免了彩色的大光圈现象的发生。33.为了更有针对性地解决彩色光圈的问题，像素界定层2的与像素区相邻的坡面形成有缓坡区51，缓坡区51与衬底基板1所在平面之间的夹角小于等于预设角度；缓坡区51正投影于封装层背离电极层4一侧的表面上的区域为投影区；表面处理区9至少包括投影区。通过上述方案，可以只针对性地，对缓坡区51在封装层上的对应位置设置表面处理区9，在避免了出现彩色的光圈现象的同时，还能够避免对正常出射的光线的影响，由于使经过的光线发生散射这一效果同样也作用于发光层3中的发光元件发出的光亮，因此，尽量减少表面处理区9能够避免影响正常显示功能的亮度和观感。34.其中，缓坡区51的预设角度为20°，通过计算和实验，当电极层4的坡度角大于18度时，即可发生如图5b所示出的情况，即在界面11处发生全反射情况，并不会发生彩色光圈的现象。因此，限定缓坡区51的角度小于20°既能够充分避免发生彩色光圈的现象，也能够尽量避免对正常出射的光线的影响。35.而对于像素界定层2上与衬底基板1所在平面之间的夹角为0度的部分，光线照射在此处对应的电极层4上时，由于光线实际为垂直照射，因此并不会发生分光现象，因此，对于像素界定层2上与衬底基板1所在平面之间的夹角为0度的部分在电极层4上形成的投影区，可以不设置表面处理区9。36.其中，缓坡区位于靠近坡面的坡顶的位置，以图3中所示的像素界定层2为例，坡顶的位置为像素界定层2远离衬底基板1的一侧形成的平面，即缓坡区位于坡面的上半段的部分。37.另外，如图1-2所示，对于处理工艺的考量，可选择使表面处理区9为像素界定层2正投影于封装层背离电极层4一侧的表面的区域；或者，表面处理区9为封装层背离电极层4一侧的表面的整个区域。由于斜坡部分与平面部分之间存在逐渐过渡的部分，在实际生产中相对难以直接切准确地确定缓坡区51的具体范围，而缓坡区51其实是像素界定层2的一部分，因此，可直接选择对应于整个像素界定层2正投影于封装层背离电极层4一侧的表面的区域上设置表面处理区9。而为了进一步地出于成本考量或为了简化工艺，如图2所示，也可选择在整个封装层背离电极层4一侧的表面设置表面处理区9，不仅能够免去对非表面处理区进行甄别的工作，还能够省去为了避免非表面处理区被处理工艺加工到而进行的遮蔽步骤。38.可选地，为进一步加强对经过表面处理区9的光线进行散射的效果，表面处理区9覆盖有反射层10，反射层10也具有半射半透特性，即反射层10能够对经过的一部分光线发生反射，而另一部分光线发生透射，反射层10的材料可选择为含有银或铝或其氧化物的材料，由于反射层10反射了部分经电极层4反射后产生的分光光线，因此，可以进一步使经过表面处理区9的光线发生散射，从而进一步地避免用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈现象的问题。39.其中，反射层10对经过光线的反射率大于等于5％，且小于等于15％，那么相应地，反射层10的透光率为大于等于85％，小于等于95％，过高的反射率将会影响发光层3中发光器件正常发出的光线，导致显示装置亮度降低等不良影响。而反射层10的厚度可设置为大于等于0.2微米，且小于等于2微米。40.具体地，如图4所示，封装层包括覆盖于电极层4上的第一无机层5、覆盖于第一无机层5上的有机层6、覆盖于有机层6上的第二无机层7，在第一无机层5、有机层6以及第二无机层7中至少其中之一背离电极层4的一侧的表面设置有表面处理区9。即可仅在第一无机层5、有机层6以及第二无机层7中其中之一上设置表面处理区9，或者同时在第一无机层5、有机层6以及第二无机层7中的两者均设置有表面处理区9，例如在第一无机层5和有机层6背离电极层4一侧的表面上设置有表面处理区9、在第一无机层5和第二无机层7背离电极层4一侧的表面上设置有表面处理区9、在有机层6、第二无机层7背离电极层4一侧的表面上设置有表面处理区9。41.作为另一种实施方式，可以选择同时在第一无机层5、有机层6以及第二无机层7上均设置有表面处理区9。42.为了防止过多设置反射层10导致透光率不足，对于在多个封装层上均设置有表面处理区9的情况，反射层10仅设置于位于距电极层4最远的一层上，例如，在第一无机层5和有机层6背离电极层4一侧的表面上设置有表面处理区9时，反射层10设置于有机层6背离电极层4一侧的表面上的表面处理区9。43.如图4所示，通常第一无机层5厚度相对较薄切贴合于电极层4，因此，光线在经过电极层4反射后，只经过很短的路径便到达了第一无机层5背离电极层4一侧的表面，那么，第一无机层5上的表面处理区9可选择性地仅对应于缓坡区51或像素界面层2在第一无机层5背离电极层4的一侧表面上正投影的投影区设置。但是对于其中的有机层6，由于通常通过使有机层6进行流平，从而使其远离电极层4的一侧表面为平坦的表面，难以避免地，其相比第一无机层5具有更厚的厚度，如图2所示，其并非如第一无机层5一样，为覆盖于电极层4上的均匀层结构，其靠近第一无机层5的表面随第一无机层5的起伏变化而变化。44.因此，如图4所示，导致分光光线在经过电极层4的反射后，到达其背离于电极层4的表面时，该区域已经偏离了缓坡区51或像素界面层2正投影于其上的位置，且难以界定光线出射的具体位置，而第二无机层7则覆盖于有机层6，到达第二无机层7的光线需要先经过有机层6，因此基于同样的原因，导致分光光线在经过电极层4的反射后，到达第二无机层7背离于电极层4的表面时，该区域已经偏离了缓坡区51或像素界面层2正投影于其上的位置，且难以界定光线出射的具体位置。为解决上述问题，在有机层6或第二无机层7上设置的表面处理区9为有机层6或第二无机层7背离电极层4的一侧的整个表面。45.其中，反射层10也无需与整个表面处理区9对应设置，例如，第一无机层5背离电极层4的整个表面均为表面处理区9时，反射层10仅设置于缓坡区51在第一无机层5背离电极层4的表面上正投影的部分设置，或设置于像素界定层2在第一无机层5背离电极层4的表面上正投影的部分设置。46.本公开实施例还提供一种显示装置，包括上述技术方案中的阵列基板，并能够有效避免用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈现象的问题。47.可选地，在阵列基板上覆盖有色阻层8，色阻层8包括黑矩阵、彩色滤光片和平坦层，其中，彩色滤光片与发光层的发光器件对应设置，黑矩阵对应于像素界定层2设置，且黑矩阵在像素界定层2上的正投影区域不超过像素界定层2的范围，平坦层覆盖于黑矩阵和彩色滤光片设置。48.可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。









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