一种柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统的制作方法 专利技术说明

金属材料;冶金;铸造;磨削;抛光设备的制造及处理,应用技术1.本实用新型涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种分布驱动的卷绕真空镀膜系统。背景技术：2.柔性薄膜基底材料的选择多种多样，市场上应用广泛的有pc、pi、pvc、pmma、pet等等，这些材料会受温度升高影响而产生热应力，从而改变其形状，且随着温升增加而变形加剧，而较薄的基膜的热应力形变会更加明显。由于在真空镀膜过程中产生大量热能并且集聚在一起，因此常规采用冷却辊来使柔性薄膜基材的温度下降，维持柔性薄膜基材的性能，在卷绕镀膜过程中不发生断裂等受损现场，常规真空镀膜设备中采用1-2个冷却辊(如图1和图2)，图1为常规单面真空镀膜设备，图2为常规双面真空镀膜设备，但是常规的真空镀膜设备由于冷却面积有限，冷却效果一般，因此目前常规的卷绕镀膜机只能镀厚度在50nm至200nm之间的常规柔性基膜。3.近年来，随着新能源动力电池需求的迅猛发展，对在厚度小于10微米的超薄柔性基膜上制备较厚膜层的需求日益体现。在对这类超薄柔性基膜进行蒸发镀膜时，基膜很容易在较高的镀膜加热环境温度中发生变形褶皱，甚至会因为形变过度而导致薄膜基膜断裂，严重影响生产效率和产品质量，因此超薄柔性基膜需要采用更优的冷却方案进行冷却；再者，常规镀膜厚度在几十纳米到几百纳米，目前对于镀膜厚度的要求逐步增加，镀膜厚度需求增加到几百纳米到上千纳米，镀膜厚度增加，镀膜时间会相应增长，采用少量冷却辊(1-2个)就无法达到所需的冷却效果。4.由于冷却辊为动力辊，因此如果多个冷却辊采用相同的速度运动，则不能启到一定的动力效果，柔性基材的传动会受到一定的影响，如果柔性基材在冷却辊上较松，则起不到较好的冷却效果，如果柔性基材在冷却辊上较紧，则容易断裂，因此如果控制柔性基材的运转状态极为重要。5.因此，目前需要寻找一种能够满足市场需求的冷却效果好、镀膜厚度增加的驱动卷绕系统，以生产出在超薄柔性基材上镀较厚膜层的产品。技术实现要素：6.本实用新型的目的在于寻找一种能够使冷却效果提升、镀膜厚度增加的柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统。7.本实用新型提供了一种柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统，包括放卷辊、前处理辊组、镀膜系统以及收卷辊，其特征在于，所述镀膜系统包括至少一个镀膜装置单元，所述镀膜装置单元包括冷却辊组，所述镀膜系统由至少4个冷却辊组成，各个所述冷却辊被各自独立的分布式动力装置驱动，按照柔性基材行进方向的任意相邻两个冷却辊分别为前冷却辊和后冷却辊，所述后冷却辊的转动线速度大于或等于所述前冷却辊的转动线速度，用以驱动所述柔性基材的行进，使所述柔性基材不会太松，能够紧密环绕在所述冷区辊组上，起到较好的冷却效果；所述柔性基材也不会太紧，不会造成所述柔性基材的断裂。8.进一步地，所述镀膜装置单元为磁控溅射镀膜装置或蒸发镀膜装置或电弧镀膜装置。即所述镀膜装置可以包括磁控溅射镀膜装置单元或蒸发镀膜装置单元或电弧镀膜装置单元中的一种或多种的组合。9.进一步地，所述冷却辊组中的各冷却辊之间还布置有导向辊和/或展平辊，所述导向辊和/或所述展平辊的布置可以实施所述柔性基材的a面单面镀膜或a、b双面镀膜。也就是说当需要对柔性基材进行a面单面镀膜时，所述导向辊和/或所述展平辊不会对所述柔性基材起到翻面的作用；当需要对柔性基材进行a、b双面镀膜时，所述导向辊和/或所述展平辊会对所述柔性基材起到翻面的作用。10.进一步地，对所述柔性基材进行a面、b双面镀膜时，沿所述柔性基材沿行进方向前进，利用所述冷却辊、所述导向辊和/或所述展平辊对所述柔性基材的被镀面进行一次或一次以上的翻面调整，翻面的次数根据镀膜的具体需求进行确定，多次翻面镀膜可以增加镀膜膜层的厚度，最终得到较厚的膜层厚度。11.进一步地，所述柔性基材经过至少一个冷却辊后进行所述被镀面的翻面，即所述柔性基材沿一个或多个所述冷却辊行进后进行翻面，经过的所述冷却辊数量越多，冷却效果越好，也可以使所镀膜层的厚度越厚。12.优选地，所述柔性基材进行单次或多次a面、b面交替镀膜，即所述柔性基材可以先通过冷却辊组进行a面镀膜，然后通过所述导向辊和/或所述展平辊对所述柔性基材进行翻面，然后通过冷却辊组进行b面镀膜，上述过程可以为单次，也可以为多次，即镀膜过程为a面-b面、a面-b面-a面-b面……。13.进一步地，所述分布式动力装置为可进行调速控制的电机系统，所述电机系统设有减速装置，对所述冷却辊的速度控制更加精准。14.优选地，所述电机系统具备扭矩测量功能或与扭矩相关的驱动电流反馈功能，通过测量值或者反馈值可以对所述冷却辊转动的扭矩进行判断。15.优选地，设置所述扭矩或所述扭矩电流安全控制值为s，调节所述前冷却辊和所述后冷却辊分别对应的分布式动力装置的转速，使所述扭矩或与所述扭矩相关的驱动电流控制在s±20％的范围内。通过上述控制手段，可以调节所述前冷却辊和所述后冷却辊的转动线速度，在正常情况下所述后冷却辊的转动线速度大于或等于所述前冷却辊的转动线速度，最终使所述柔性基材的行进速度、基材张力在安全有效的运行范围内。16.优选地，所述扭矩或与所述扭矩相关的驱动电流控制在s±10％范围内，控制范围更加精准，对于柔性基材的适应性更好。17.进一步地，所述导向辊或展平辊布置在相邻所述冷却辊间隔缝隙的斜后方，远离所述镀膜装置单元的蒸发靶源或溅射靶源或电弧靶源，即所述导向辊或展平辊上基本上不会有所述蒸发靶源、溅射靶源或电弧靶源发出的粒子。18.优选地，所述冷却辊组中的各冷却辊可竖向、横向或圆弧形布置，布置方式可以根据使用需求进行选择调整。19.进一步地，所述相邻冷却辊的间隔小于50毫米。20.优选地，所述各相邻冷却辊等间隔布置。21.由以上技术方案可知，本技术中的柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统，通过设置多个冷却辊，并精准控制各个冷却辊的线速度，保持柔性基材能够安全、匀速行进，张力稳定、基材与冷却辊紧密接触冷却效果好，能够在超薄的柔性基材表面进行较厚的镀膜，解决了镀膜厚度增加时冷却能力不足以及采用多个冷却辊时柔性基材的行进速度控制不好导致的冷却效果不佳或易断裂的问题，能够满足柔性基材单面、双面多种较厚膜层的镀膜。附图说明22.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。23.图1为常规单面真空镀膜设备的结构简图；24.图2为常规双面真空镀膜设备的结构简图；25.图3为柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统第一实施例的结构简图；26.图4为柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统第二实施例的结构简图；27.图5为柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统第三实施例的结构简图；28.图6为柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统第四实施例的结构简图；29.图7为柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统第五实施例的结构简图。30.图中，01常规放卷辊，02为常规收卷辊，03为a面常规冷却辊(a0)，04为b面常规冷却辊(b0)，05为常规导向辊或展平辊，06为常规蒸发源，1为放卷辊，2为收卷辊，3为冷却辊，31为第一a面冷却辊(a1)，32为第二a面冷却辊(a2)，33为第三a面冷却辊(a3)，34为第四a面冷却辊(a4)，41为第一b面冷却辊(b1)，42为第二b面冷却辊(b2)，43为第三b面冷却辊(b3)，44为第四b面冷却辊(b4),5为导向辊或展平辊，6为蒸发源，701为溅射靶,m为第一镀膜装置单元，n为第二镀膜装置单元。具体实施方式31.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。32.目前，市场上的真空镀膜设备采用卷绕系统可以对柔性基材进行真空镀膜，真空镀膜设备一般分为两种，一种是单面镀膜，如图1所示，柔性基材通过常规放卷辊01进行放卷，再通过常规导向辊或展平辊05进入到常规冷却辊03，在常规冷却辊03上完成单面镀膜，随后通过常规导向辊或展平辊05回收到常规收卷辊02上，所述常规冷却辊03中会通入冷却液，因为在镀膜过程中，温度非常高，不及时冷却的话就会对柔性基材造成不可修复的损伤，生产出废品；另外一种是双面镀膜，如图2所示，柔性基材通过常规放卷辊01进行放卷，再通过常规导向辊或展平辊05进入到a面常规冷却辊(a0)03，在a面常规冷却辊(a0)03上完成a面镀膜，随后通过常规导向辊或展平辊05进行翻面，翻面后进入b面常规冷却辊(b0)04，在b面常规冷却辊(b0)04上完成b面镀膜，随后通过常规导向辊或展平辊05回收到常规收卷辊02上。33.随着市场的发展，产业对柔性基材上镀膜的膜层需求越来越高，常规的镀膜设备采用的冷却辊数量较少，冷却能力不足，本技术提出了一种柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统，能够实现较厚的膜层厚度。34.实施例一：35.图3为柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统第一实施例的结构简图，如图3所示，柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统包括放卷辊1、前处理辊组、镀膜系统以及收卷辊2，按照所述柔性基材的行进方向通过的顺序依次为放卷辊1、前处理辊组、镀膜装置以及收卷辊2，所述前处理辊对所述柔性基材进行清洁，避免所述柔性基材存在油污或灰尘，其特征在于，所述镀膜系统包括至少一个镀膜装置单元，在本实施例中所述镀膜系统包括一个镀膜装置单元，所述镀膜装置单元为磁控溅射镀膜装置单元或蒸发镀膜装置单元或电弧镀膜装置单元，在本实施例中，为蒸发镀膜装置单元，所述镀膜装置单元包括冷却辊组，所述镀膜系统由至少4个冷却辊组成，如图3所示，所述冷却辊组包括4个冷却辊：第一a面冷却辊31、第二a面冷却辊32、第三a面冷却辊33、第四a面冷却辊34，各个所述冷却辊被各自独立的分布式动力装置驱动，按照柔性基材行进方向的任意相邻两个冷却辊分别为前冷却辊和后冷却辊，所述后冷却辊的转动线速度大于或等于所述前冷却辊的转动线速度，用以驱动所述柔性基材的行进，使所述柔性基材不会太松，能够紧密环绕在所述冷区辊组上，起到较好的冷却效果；所述柔性基材也不会太紧，不会造成所述柔性基材的断裂。优选地，所述冷却辊组中的各冷却辊可竖向、横向或圆弧形布置，布置方式可以根据使用需求进行选择调整，在本实施例中，所述冷却辊组横向布置。所述冷却辊组中的各冷却辊之间还布置有导向辊和/或展平辊5，所述导向辊和/或所述展平辊5的布置可以实施所述柔性基材的a面单面镀膜或a、b双面镀膜。也就是说当需要对柔性基材进行a面单面镀膜时，所述导向辊和/或所述展平辊5不会对所述柔性基材起到翻面的作用；当需要对柔性基材进行a、b双面镀膜时，所述导向辊和/或所述展平辊5会对所述柔性基材起到翻面的作用。所述分布式动力装置为可进行调速控制的电机系统，优选地，所述电机系统为变频电机、步进电机或伺服电机系统；通常情况下，所述电机系统会包括减速装置。优选地，所述电机系统具备扭矩测量功能或与扭矩相关的驱动电流反馈功能，通过测量值或者反馈值可以对所述冷却辊转动的扭矩进行判断。常见情况下电机驱动电流与电机输出扭矩有单调对应关系，所以反馈电流的大小基本上可以评价电机的输出扭矩大小，由于反馈电流数值的获得非常简便、低成本并且反应速度快，因此优选使用驱动电流反馈对电机进行控制。使用者通过扭矩测量值或者电机电流反馈值可以对所述冷却辊的输出扭矩进行判断。设置所述扭矩或所述与扭矩对应的驱动电流安全控制值为s，调节所述前冷却辊和所述后冷却辊分别对应的分布式动力装置的转速，使所述扭矩或所述驱动电流控制在设定值s±20％的范围内；优选地，还可以将所述扭矩或所述与扭矩对应的驱动电流控制在设定值s±10％的范围内。通过调节控制各冷却辊的分布式驱动电机转速的方式，使得所述电机系统的扭矩或与扭矩对应的驱动电流在合适的数值范围，从而保证柔性基材的拉力(张力)在适当的范围内，既可以确保柔性基材与冷却辊紧密接触冷却良好，又能防止过大的拉力破坏基材。当某扭矩或驱动电流偏大或偏小时，则相应降低或升高该电机的转速，从而使得设定值稳定。进一步地，在机械运动系统正常的情况下，所述后冷却辊转动线速度等于或大于所述前冷却辊转动线速度，从而补偿柔性基材的伸长量及确保基材在每个冷却辊表面的紧密接触和良好冷却。36.所述相邻冷却辊的间隔优选为小于50mm，进一步优选地，所述间隔为20-30mm。所述各相邻冷却辊等间隔布置。所述导向辊和/或所述展平辊5位于相邻所述冷却辊间隔缝隙的斜后方，远离所述镀膜装置单元的蒸发靶源、溅射靶源或电弧靶源，避免与所述蒸发、溅射或电弧源直视可见，防止镀膜过程中对所述导向辊和/或所述展平辊5等的污染，并提高镀膜材料利用率。37.实施例一柔性基材镀膜过程：柔性基材经过所述放卷辊1放卷，通过所述导向辊和/或所述展平辊5，进入所述镀膜系统，在本实施例中所述镀膜系统仅包括一个镀膜装置单元，实际使用时，可以采用多个不同材质膜层的镀膜装置单元，在本实施例中不再赘述。所述柔性基材在镀膜系统中的冷却辊组中进行镀膜，所述柔性基材的行进过程为第一a面冷却辊31、第二a面冷却辊32、第三a面冷却辊33、第四a面冷却辊34以及相邻冷却辊之间的所述导向辊和/或所述展平辊5，最终完成镀膜，随后经过所述导向辊和/或所述展平辊5后背所述收卷辊进行收卷。38.实施例二39.图4为柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统第二实施例的结构简图。如图4所示，柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统包括放卷辊1、前处理辊组、镀膜装置以及收卷辊2，其特征在于，包括第一镀膜装置单元m和第二镀膜装置单元n，所述第一镀膜装置单元m对所述柔性基材的a面进行镀膜，所述第二镀膜装置单元n对所述柔性基材的b面进行镀膜。所述第一镀膜装置单元m和第二镀膜装置单元n为磁控溅射镀膜装置单元。本实施例中的镀膜系统采用对所述柔性基材进行a面、b双面镀膜时，沿所述柔性基材沿行进方向前进，利用所述冷却辊、所述导向辊和/或所述展平辊5对所述柔性基材的被镀面进行一次或一次以上的翻面调整，翻面的次数根据镀膜的具体需求进行确定，多次翻面镀膜可以增加镀膜膜层的厚度，最终得到较厚的膜层厚度。在本实施例中，所述柔性基材经过一个冷却辊后进行所述被镀面的翻面，所述柔性基材进行多次a面、b面交替镀膜，即所述柔性基材可以先通过冷却辊组进行a面镀膜，然后通过所述导向辊和/或所述展平辊对所述柔性基材进行翻面，然后通过冷却辊组进行b面镀膜，在本实施例中，上述过程可以为三次。本实施例中的分布式动力装置的设置与实施例一种相同，即通过调节所述前冷却辊和所述后冷却辊的转动线速度，使所述后冷却辊的转动线速度大于或等于所述前冷却辊的转动线速度最终使所述柔性基材的行进速度在安全有效的运行范围内。所述第一镀膜装置单元m中的各个所述冷却辊为竖向布置，所述第二镀膜装置单元n中的各个所述冷却辊为竖向布置，所述第一镀膜装置单元m和所述第二镀膜装置单元n相对布置。所述镀膜装置单元中的冷却辊竖向布置可以有效避免溅射颗粒下落。40.实施例二柔性基材镀膜过程：41.柔性基材经过所述放卷辊1放卷，通过所述导向辊和/或所述展平辊5，进入所述镀膜系统，在本实施例中所述镀膜系统仅包括两个镀膜装置单元，第一镀膜装置单元m和第二镀膜装置单元n，实际使用时，所述镀膜装置单元m和n可以镀相同的膜层，也可以镀不同的膜层，所镀膜层的厚度也可以不同。所述柔性基材在镀膜系统中的冷却辊组中进行镀膜，所述柔性基材的行进过程为第一a面冷却辊31、第一b面冷却辊41、第二a面冷却辊32、第二b面冷却辊42、第三a面冷却辊33、第三b面冷却辊43、第四a面冷却辊34、第四b面冷却辊44以及相邻冷却辊之间的所述导向辊和/或所述展平辊5，所述柔性基材在所述冷却辊组行进过程中，位于所述冷却辊组外侧面的多个所述溅射靶701对所述柔性基材的被镀面进行镀膜，即镀膜过程为a面-b面-a面-b面……，最终完成镀膜，随后经过所述导向辊和/或所述展平辊5后背所述收卷辊进行收卷。需要说明的是，在本实施例中，所述柔性基材经过一个冷却辊后进行所述被镀面的翻面。所述柔性基材沿行进方向前进，利用所述冷却辊、所述导向辊和/或所述展平辊5对所述柔性基材的被镀面进行多次翻面调整，翻面的次数根据镀膜的具体需求进行确定，多次翻面镀膜可以增加镀膜膜层的厚度，最终得到较厚的膜层厚度。42.实施例三43.图5为柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统第三实施例的结构简图。如图5所示，与实施例二的不同点在于:1、所述第一镀膜装置单元m中的各个所述冷却辊为竖向布置，所述第二镀膜装置单元n中的各个所述冷却辊为竖向布置，所述第一镀膜装置单元m和所述第二镀膜装置单元n竖向布置；2、所述柔性基材经过多个冷却辊后进行所述被镀面的翻面，在本实施例中，所述多个冷却辊具体为两个。44.实施例三柔性基材镀膜过程：45.柔性基材经过所述放卷辊1放卷，通过所述导向辊和/或所述展平辊5，进入所述镀膜系统，在本实施例中所述镀膜系统仅包括两个镀膜装置单元，实际使用时，两个镀膜装置单元可以镀相同的膜层，也可以镀不同的膜层，所镀膜层的厚度也可以不同。所述柔性基材在镀膜系统中的冷却辊组中进行镀膜，所述柔性基材的行进过程为第一a面冷却辊31、第二a面冷却辊32、第一b面冷却辊41、第二b面冷却辊42以及相邻冷却辊之间的所述导向辊和/或所述展平辊5，所述柔性基材在所述冷却辊组行进过程中，位于所述冷却辊组外侧面的多个所述溅射靶701对所述柔性基材的被镀面进行镀膜，即镀膜过程为a面-a面-b面-b面……，最终完成镀膜，随后经过所述导向辊和/或所述展平辊5后背所述收卷辊进行收卷。46.实施例四47.图6为柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统第四实施例的结构简图。如图6所示，与实施例二的不同点在于:1、所述镀膜装置单元为蒸发镀膜装置单元；2、所述第一镀膜装置单元m中的各个所述冷却辊为横向布置，所述第二镀膜装置单元n中的各个所述冷却辊为横向布置，所述第一镀膜装置单元m和所述第二镀膜装置单元n竖向布置；3、所述柔性基材经过多个冷却辊后进行所述被镀面的翻面，在本实施例中，所述多个冷却辊具体为四个。48.实施例四柔性基材镀膜过程：49.柔性基材经过所述放卷辊1放卷，通过所述导向辊和/或所述展平辊5，进入所述镀膜系统，在本实施例中所述镀膜系统仅包括两个镀膜装置单元，实际使用时，两个镀膜装置单元可以镀相同的膜层，也可以镀不同的膜层，所镀膜层的厚度也可以不同。所述柔性基材在镀膜系统中的冷却辊组中进行镀膜，所述柔性基材的行进过程为第一a面冷却辊31、第二a面冷却辊32、第三a面冷却辊33、第四a面冷却辊34、第一b面冷却辊41、第二b面冷却辊42、第三b面冷却辊43、第四b面冷却辊44以及相邻冷却辊之间的所述导向辊和/或所述展平辊5，即镀膜过程为a面-a面-a面-a面-b面-b面-b面-b面，最终完成镀膜，随后经过所述导向辊和/或所述展平辊5后背所述收卷辊进行收卷。50.实施例四较实施例三相比，所镀膜层的厚度更厚，最终需要根据使用需求选择。51.实施例五52.图7为柔性基材真空镀膜设备分布驱动卷绕系统第五实施例的结构简图。如图7所示，与实施例四的不同点在于:所述第一镀膜装置单元m中的各个所述冷却辊为圆弧形布置，所述第二镀膜装置单元n中的各个所述冷却辊为圆弧形布置，所述第一镀膜装置单元m和所述第二镀膜装置单元n竖向布置。当所述冷却辊组呈圆弧形布置时(图7)，所述镀膜装置单元的靶源布置在圆弧形所在的圆心位置附近。所述靶源为蒸发靶源或溅射靶源或电弧靶源，所述靶源由圆心附近位置向外围扩散，所述冷却辊组呈一定角度的圆弧形布置，对所述靶源形成包围结构，可以使所述柔性基材能够更加有效地接收，减少镀膜材料的浪费，提高经济性。优选地，所述圆弧形的圆心角大于120度，可以较大范围地接收所述蒸发靶源被镀材料的镀膜。进一步优选地，所述圆弧形布置的冷却辊组中所述冷却辊的数量不少于3个。53.实施例五中柔性基材镀膜过程与实施例四相同，此处不再赘述。54.本技术中的分布驱动卷绕系统能够在较薄的柔性基材上实现镀较厚的膜层，冷却效果好，主要是通过设置多个冷却辊形成冷却辊组，解决冷却效果不佳的问题，进而配合智能化的分布驱动卷绕系统，实现后冷却辊的线速度大于或等于前冷却辊，以解决冷却辊与柔性基材的紧密接触和良好冷却问题，同时有效补偿基材伸长量、确保基材(特别是超薄柔性基材)的张力稳定在最合适的范围不被破坏，保障镀膜工艺正常进行。该分布驱动卷绕系统适用范围较广，在磁控溅射、蒸发以及电弧镀膜设备中均可使用。55.需要说明的是，传统卷绕控制系统中的收放卷、纠偏、展平、引带快速穿膜等控制手段均适用于本实用新型中，不再具体描述。56.应当理解的是，本实用新型并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本实用新型的范围仅由所附的权利要求来限制。









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